Hafnium(IV)-fluorid

aus Wikipedia, der freien Enzyklopädie
Zur Navigation springen Zur Suche springen
Kristallstruktur
Kristallstruktur von Hafnium(IV)-fluorid
_ Hf4+ 0 _ F
Allgemeines
Name Hafnium(IV)-fluorid
Andere Namen
  • Tetrafluorhafnium
  • Hafniumtetrafluorid
Verhältnisformel HfF4
Kurzbeschreibung

weißer Feststoff[1]

Externe Identifikatoren/Datenbanken
CAS-Nummer 13709-52-9
EG-Nummer 237-258-0
ECHA-InfoCard 100.033.856
PubChem 4092293
Wikidata Q4493197
Eigenschaften
Molare Masse 254,48 g·mol−1
Aggregatzustand

fest[2]

Dichte

7,1 g·cm−3[3]

Schmelzpunkt

1140 °C[4]

Löslichkeit

Zersetzung in Wasser[5]

Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung[2]
Gefahrensymbol Gefahrensymbol

Gefahr

H- und P-Sätze H: 315​‐​318​‐​331​‐​335
P: 261​‐​280​‐​304+340+312​‐​305+351+338+310​‐​403+233[2]
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet.
Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen (0 °C, 1000 hPa).

Hafnium(IV)-fluorid ist eine anorganische chemische Verbindung des Hafniums aus der Gruppe der Fluoride.

Gewinnung und Darstellung

[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]

Hafnium(IV)-fluorid kann durch Reaktion von Hafniumdioxid mit Fluor gewonnen werden.[6]

Es kann auch durch Fluorierung von Hafnium, Hafniumcarbid, Hafniumborid gewonnen werden.[7]

Hafnium(IV)-fluorid ist ein weißer Feststoff.[1] Er besitzt eine monokline Kristallstruktur vom Zirconium(IV)-fluoridtyp mit der Raumgruppe C2/c (Raumgruppen-Nr. 15)Vorlage:Raumgruppe/15 und den Gitterparametern a = 1172,5 pm, b = 986,9 pm, c = 763,6 pm und β = 126,15°, R = 6,7 % bzw. RW = 7,24 %.[8] Es ist auch ein Trihydrat der Verbindung bekannt.[9] Mit Flusssäure reagiert die Verbindung zu verschiedenen Hydraten (Mono- und Trihydrat) und Oxyfluoriden.[10]

Hafnium(IV)-fluorid wird als dünne Beschichtung von optischen und elektronischen Elementen verwendet.[11]

Einzelnachweise

[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]
  1. a b Datenblatt Hafnium(IV) fluoride, 99.9% (metals basis) bei Alfa Aesar, abgerufen am 23. Januar 2017 (Seite nicht mehr abrufbar).
  2. a b c Datenblatt Hafnium(IV) fluoride, 99.9% trace metals basis (purity excludes up to ~1% zirconium) bei Sigma-Aldrich, abgerufen am 23. Januar 2017 (PDF).
  3. Carl L. Yaws: The Yaws Handbook of Physical Properties for Hydrocarbons and Chemicals Physical Properties for More Than 54,000 Organic and Inorganic Chemical Compounds, Coverage for C1 to C100 Organics and Ac to Zr Inorganics. Gulf Professional Publishing, 2015, ISBN 978-0-12-801146-1, S. 715 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  4. Dmitrii N. Khitarov, Boris Pavlovich Sobolev, Irina V. Alexeeva: The Rare Earth Trifluorides. Institut d'Estudis Catalans, 2001, ISBN 978-84-7283-610-5, S. 102 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  5. William M. Haynes: CRC Handbook of Chemistry and Physics, 94th Edition. CRC Press, 2016, ISBN 978-1-4665-7115-0, S. 66 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  6. I. N. Toumanov: Plasma and High Frequency Processes for Obtaining and Processing Materials in the Nuclear Fuel Cycle. Nova Publishers, 2003, ISBN 978-1-59033-009-8, S. 104 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  7. A. P. Hagen: Inorganic Reactions and Methods, The Formation of Bonds to Halogens. John Wiley & Sons, 2009, ISBN 0-470-14539-0, S. 288 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  8. G. Benner, B. G. Müller: Zur Kenntnis binärer Fluoride des ZrF4-Typs: HfF4 und ThF4. In: Zeitschrift für anorganische und allgemeine Chemie. 588, 1990, S. 33, doi:10.1002/zaac.19905880105.
  9. B. F. G. Johnson: Inorganic Chemistry of the Transition Elements. Royal Society of Chemistry, 1972, ISBN 978-0-85186-500-3, S. 22 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  10. R. J. H. Clark, D. C. Bradley, P. Thornton: The Chemistry of Titanium, Zirconium and Hafnium Pergamon Texts in Inorganic Chemistry. Elsevier, 2013, ISBN 978-1-4831-5921-8, S. 436 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  11. P.M Martin, L.C Olsen, J.W Johnston, D.M Depoy: Investigation of sputtered HfF4 films and application to interference filters for thermophotovoltaics. In: Thin Solid Films. 420–421, 2002, S. 8, doi:10.1016/S0040-6090(02)00652-1.